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  • 1400℃三溫區管式爐
    1400℃三溫區管式爐

    更新時間:2021-03-06

    瀏覽量:1424

    1400℃三溫區管式爐采用智能化程序溫控系統,可控硅控制,控溫精度高;高真空級法蘭密封,結合我司標準真空、混氣系統,可抽真空通氣氛;以優質硅碳棒為加熱元件,采用智能化控溫系統,可控硅控制,控溫精度高;爐腔采用日本技術真空吸附成型的優質1600型氧化鋁多晶體纖維無機材料拼搭結構,長期使用不斷裂、垮塌;爐體為雙層爐殼,配有風冷系統,有效保證外殼表面溫度;內置三個溫區,可營造不同的溫度梯度。
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  • 1700℃精密真空氣氛管式爐
    1700℃精密真空氣氛管式爐

    更新時間:2020-11-20

    瀏覽量:1514

    1700℃精密真空氣氛管式爐采用觸摸屏控制系統,一鍵智能化操作,圖文界面操作更便捷;高真空級法蘭密封,結合我司標準真空、混氣系統,可抽真空通氣氛。適用于高校、科研院所、工礦企業做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火等。
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  • 1200開啟式管式爐
    1200開啟式管式爐

    更新時間:2020-11-20

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    開啟式管式爐 在真空壓力下,加在電感線圈的射頻電場,使反應室氣體發生輝光放電,在輝光發電區域產生大量的電子。這些電子在電場的作用下獲得充足的能量,其本身溫度很高,它與氣體分子相碰撞,使氣體分子活化。它們吸附在襯底上,并發生化學反應生成介質膜,副產物從襯底上解吸,隨主氣流由真空泵抽走,稱為等離子體增強化學氣相沉(PECVD)。
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